Selective oxidation for 3d device isolation

WO2019236260 Art A1 12. Dezember 2019

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019236260
Aktenzeichen: EP19816146
Anmeldetag: 16. Mai 2019
Veröffentlichung: 12. Dezember 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/66H01L29/78H01L29/423H01L21/8234H01L21/768H01L21/311

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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