System and method for scanning a sample using multi-beam inspection apparatus

WO2019238553 Art A1 19. Dezember 2019

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019238553
Aktenzeichen: EP19731630
Anmeldetag: 7. Juni 2019
Veröffentlichung: 19. Dezember 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/26H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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