Phenolic novolac resin, method for manufacturing same, photosensitive composition, resist material, and resist film
WO2019239784
Art A1
19. Dezember 2019
Anmelder: DIC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019239784
- Aktenzeichen
- EP19818513
- Anmeldetag
- 16. Mai 2019
- Veröffentlichung
- 19. Dezember 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/023C08G8/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- DIC CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
DIC Corporation
DIC Corporation ist ein japanischer Chemiekonzern (früher Dainippon Ink and Chemicals) mit Schwerpunkt auf Druckfarben, Pigmenten und organischen Feinchemikalien.
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