Method for manufacturing microdisplay substrate

WO2019239835 Art A1 19. Dezember 2019

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019239835
Aktenzeichen: EP19818520
Anmeldetag: 23. Mai 2019
Veröffentlichung: 19. Dezember 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02G02F1/1368H01L27/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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