Cleaning system for removing deposits from pump in an exhaust of a substrate processing system

WO2019241718 Art A1 19. Dezember 2019

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019241718
Aktenzeichen: EP19818884
Anmeldetag: 14. Juni 2019
Veröffentlichung: 19. Dezember 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/67H05H1/46H01J37/32H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von