Photosensitive resin composition and resist pattern formation method
WO2019244898
Art A1
26. Dezember 2019
Anmelder: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019244898
- Aktenzeichen
- EP19823225
- Anmeldetag
- 18. Juni 2019
- Veröffentlichung
- 26. Dezember 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/031C08F2/44C08F2/46G03F7/027G03F7/033G03F7/20H05K3/06H05K3/18G03F7/004G03F7/029
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Asahi Kasei
Asahi Kasei ist ein japanischer Mischkonzern mit Sitz in Tokio, der in den Bereichen Chemie und Kunststoffe, Wohnungsbau sowie Medizintechnik tätig ist. Das 1922 gegründete Unternehmen zählt zu den größten Chemiekonzernen Japans.
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