Compensation for substrate doping for in-situ electromagnetic inductive monitoring

WO2019245875 Art A1 26. Dezember 2019

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019245875
Aktenzeichen: EP19822806
Anmeldetag: 13. Juni 2019
Veröffentlichung: 26. Dezember 2019
Rechtsraum: WO
IPC: B24B49/10B24B7/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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