Apparatus and methods for controlling the flow of process material to a deposition chamber

WO2019245988 Art A1 26. Dezember 2019

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019245988
Aktenzeichen: EP19823532
Anmeldetag: 17. Juni 2019
Veröffentlichung: 26. Dezember 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/67H01L51/00H01L21/02H01L27/146C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von