Systems and methods for growth of silicon carbide over a layer comprising graphene and/or hexagonal boron nitride and related articles
Anmelder: MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY, ROHM CO., LTD., THE GOVERNMENT OF THE UNITED STATE OF AMERICA, as 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019246515
- Aktenzeichen
- EP19821745
- Anmeldetag
- 21. Juni 2019
- Veröffentlichung
- 26. Dezember 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/36H01L21/318H01L21/3205
Abstract
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Anmelder
- Firmen
- MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY
ROHM CO., LTD.
THE GOVERNMENT OF THE UNITED STATE OF AMERICA, as - Land
- 🇺🇸 USA
US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.
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Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).
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