Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines Einkristalls aus Halbleitermaterial und Halbleiterscheibe aus Silizium
WO2020001939
Art A1
2. Januar 2020
Anmelder: SILTRONIC AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020001939
- Aktenzeichen
- EP19728954
- Anmeldetag
- 4. Juni 2019
- Veröffentlichung
- 2. Januar 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B15/04C30B15/10C30B15/14C30B15/16C30B29/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SILTRONIC AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
375 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.