Tuning patterning apparatus based on optical characteristic

WO2020001965 Art A1 2. Januar 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020001965
Aktenzeichen: EP19729012
Anmeldetag: 11. Juni 2019
Veröffentlichung: 2. Januar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von