Verfahren und Vorrichtung zum Bewerten eines Statistisch Verteilten Messwertes Beim Untersuchen eines Elements eines Photolithographieprozesses
WO2020008021
Art A1
9. Januar 2020
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020008021
- Aktenzeichen
- EP19737076
- Anmeldetag
- 5. Juli 2019
- Veröffentlichung
- 9. Januar 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/84G06N3/02G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CARL ZEISS SMT GMBH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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