Radiation-sensitive resin composition and method for forming resist pattern

WO2020008994 Art A1 9. Januar 2020

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020008994
Aktenzeichen: EP19831575
Anmeldetag: 27. Juni 2019
Veröffentlichung: 9. Januar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038C08F220/20G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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