Photosensitive Resin Composition

WO2020009087 Art A1 9. Januar 2020

Anmelder: NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2020009087
Aktenzeichen
EP19830216
Anmeldetag
2. Juli 2019
Veröffentlichung
9. Januar 2020
Rechtsraum
WO
IPC
C08G59/40G03F7/004G03F7/038H05K3/28
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nippon Kayaku

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Spezialchemikalien, Pharmazeutika und Farbstoffe.

558 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von

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