Resistance-temperature and hotplate sensors

WO2020009915 Art A1 9. Januar 2020

Anmelder: PRESIDENT AND FELLOWS OF HARVARD COLLEGE, ZHANG, Haitao, VLASSAK, Joost, ZHENG, Juanjuan, MIAO, Yucong 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2020009915
Aktenzeichen
EP19830058
Anmeldetag
28. Juni 2019
Veröffentlichung
9. Januar 2020
Rechtsraum
WO
IPC
H05B3/74G01K7/16G01F1/699
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
PRESIDENT AND FELLOWS OF HARVARD COLLEGE
ZHANG, Haitao
VLASSAK, Joost
ZHENG, Juanjuan
MIAO, Yucong
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Harvard University

US-amerikanische Elite-Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts. Harvard betreibt Forschung und Patentierung in zahlreichen Feldern, insbesondere Biotechnologie, Medizin, Life Sciences und Materialwissenschaften.

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