Hidden defect detection and epe estimation based on the extracted 3d information from e-beam images

WO2020011507 Art A1 16. Januar 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020011507
Aktenzeichen: EP19734721
Anmeldetag: 20. Juni 2019
Veröffentlichung: 16. Januar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/84G03F1/86G06T7/00G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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