Sem image enhancement methods and systems
WO2020011580
Art A1
16. Januar 2020
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020011580
- Aktenzeichen
- EP19736642
- Anmeldetag
- 1. Juli 2019
- Veröffentlichung
- 16. Januar 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/22H01J37/28G06T5/00G06T5/50G06T7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
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