Metrology apparatus and method for determining a characteristic relating to one or more structures on a substrate

WO2020015947 Art A1 23. Januar 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020015947
Aktenzeichen: EP19731729
Anmeldetag: 19. Juni 2019
Veröffentlichung: 23. Januar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/44

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von