System and method for bare wafer inspection
WO2020016262
Art A1
23. Januar 2020
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020016262
- Aktenzeichen
- EP19749215
- Anmeldetag
- 17. Juli 2019
- Veröffentlichung
- 23. Januar 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/12H01L21/68G01N21/95H01J37/21H01L21/66H01L29/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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