Method for manufacturing semiconductor device, substrate treatment device and program

WO2020016914 Art A1 23. Januar 2020

Anmelder: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2020016914
Aktenzeichen
EP18927143
Anmeldetag
17. Juli 2018
Veröffentlichung
23. Januar 2020
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/318H01L21/205H01L21/314
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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