Method for manufacturing semiconductor device, substrate treatment device and program
WO2020016914
Art A1
23. Januar 2020
Anmelder: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020016914
- Aktenzeichen
- EP18927143
- Anmeldetag
- 17. Juli 2018
- Veröffentlichung
- 23. Januar 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/318H01L21/205H01L21/314
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Kokusai Electric
Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
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