Silica dispersion, method for producing same, photocurable composition in which same is used, and cured product thereof

WO2020017277 Art A1 23. Januar 2020

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020017277
Aktenzeichen: EP19837442
Anmeldetag: 28. Juni 2019
Veröffentlichung: 23. Januar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C08F290/14C01B33/145C09C3/12C09D7/62C09D201/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik

Vertreten von