Dispersion, method for producing same, and cosmetic
WO2020017346
Art A1
23. Januar 2020
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020017346
- Aktenzeichen
- EP19837059
- Anmeldetag
- 4. Juli 2019
- Veröffentlichung
- 23. Januar 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- A61K8/894A61K8/04A61K8/29A61K8/891A61Q17/04C08K9/04C08L83/04C08L83/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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