Plasma surface treatment device and plasma surface treatment method

WO2020017490 Art A1 23. Januar 2020

Anmelder: THE UNIVERSITY OF TOKYO 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020017490
Aktenzeichen: EP19837683
Anmeldetag: 16. Juli 2019
Veröffentlichung: 23. Januar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/27C23C16/515

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: THE UNIVERSITY OF TOKYO
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 University of Tokyo

Japanische Universität mit Sitz in Tokio, eine der führenden Forschungsuniversitäten Asiens. Die Universität ist in nahezu allen wissenschaftlichen und technischen Disziplinen aktiv, darunter Materialwissenschaften, Elektrotechnik, Biotechnologie und Medizin.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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