Liquid high-resistance layer for zinc oxide varistor
WO2020019273
Art A1
30. Januar 2020
Anmelder: TSINGHUA UNIVERSITY 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020019273
- Aktenzeichen
- EP18927262
- Anmeldetag
- 27. Juli 2018
- Veröffentlichung
- 30. Januar 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C04B41/90H01C7/112H01C7/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TSINGHUA UNIVERSITY
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Tsinghua University
Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.
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