Photosensitive resin composition, method for producing patterned resin film, patterned resin film, and semiconductor circuit substrate

WO2020021827 Art A1 30. Januar 2020

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020021827
Aktenzeichen: EP19840155
Anmeldetag: 17. Mai 2019
Veröffentlichung: 30. Januar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038C08G65/40G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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