Valve device, fluid control device, fluid control method, semiconductor manufacturing device, and semiconductor manufacturing method

WO2020021911 Art A1 30. Januar 2020

Anmelder: FUJIKIN INCORPORATED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020021911
Aktenzeichen: EP19841910
Anmeldetag: 18. Juni 2019
Veröffentlichung: 30. Januar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: F16K7/17

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIKIN INCORPORATED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujikin

Der Anmelder ist ein japanischer Hersteller von Fluidsteuerungs- und Ventiltechnik für die Halbleiterfertigung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Maschinenelemente und Fluidtechnik sowie auf Steuerungs- und Regelungstechnik und Messtechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

452 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Maschinenelemente & Fluidtechnik

Vertreten von