Resist Underlayer Film Forming Composition Including Heteroatom in Polymer Main Chain

WO2020022086 Art A1 30. Januar 2020

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020022086
Aktenzeichen: EP19841143
Anmeldetag: 11. Juli 2019
Veröffentlichung: 30. Januar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G59/22G03F7/20G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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