Active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active light-sensitive or radiation-sensitive film, pattern-forming method, and electronic device production method

WO2020022089 Art A1 30. Januar 2020

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020022089
Aktenzeichen: EP19841144
Anmeldetag: 11. Juli 2019
Veröffentlichung: 30. Januar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F20/10G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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