Conformal deposition of silicon carbide films using heterogeneous precursor interaction

WO2020023385 Art A1 30. Januar 2020

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020023385
Aktenzeichen: EP19840925
Anmeldetag: 22. Juli 2019
Veröffentlichung: 30. Januar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/32C23C16/452C23C16/505H01L21/02H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von