Pseudo-skin film, method for manufacturing same, method for using same, and cosmetic kit having pseudo-skin film
WO2020026529
Art A1
6. Februar 2020
Anmelder: SHISEIDO COMPANY, LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020026529
- Aktenzeichen
- EP19843164
- Anmeldetag
- 8. April 2019
- Veröffentlichung
- 6. Februar 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- A61K8/81A61K8/02A61K8/87A61K8/89A61K8/97A61Q1/00A61Q1/04A61Q3/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHISEIDO COMPANY, LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shiseido
Japanisches Kosmetik- und Körperpflegeunternehmen mit Sitz in Tokio, gegründet 1872, eines der ältesten und größten Kosmetikunternehmen der Welt.
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Fachgebiete
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