Negative-type photosensitive resin composition and method for producing polyimide and cured relief pattern using same
WO2020026840
Art A1
6. Februar 2020
Anmelder: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020026840
- Aktenzeichen
- EP19843420
- Anmeldetag
- 18. Juli 2019
- Veröffentlichung
- 6. Februar 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/027C08F2/50C08F290/14C08G73/12G03F7/004G03F7/075G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Asahi Kasei
Asahi Kasei ist ein japanischer Mischkonzern mit Sitz in Tokio, der in den Bereichen Chemie und Kunststoffe, Wohnungsbau sowie Medizintechnik tätig ist. Das 1922 gegründete Unternehmen zählt zu den größten Chemiekonzernen Japans.
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