Device for manufacturing silicon fine particles

WO2020026934 Art A1 6. Februar 2020

Anmelder: TOKUYAMA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020026934
Aktenzeichen: EP19843425
Anmeldetag: 25. Juli 2019
Veröffentlichung: 6. Februar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C01B33/03B01F3/02B01F5/00B01F15/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKUYAMA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokuyama

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.

1.073 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Verfahrens- & Trenntechnik

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