Physical vapor deposition of doped transition metal oxide and post-deposition treatment thereof for non-volatile memory applications

WO2020028343 Art A1 6. Februar 2020

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020028343
Aktenzeichen: EP19843556
Anmeldetag: 30. Juli 2019
Veröffentlichung: 6. Februar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/285H01L21/02H01L21/28H01L27/115

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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