Oxide sputtering target and production method therefor, and oxide thin film formed using oxide sputtering target

WO2020031410 Art A1 13. Februar 2020

Anmelder: JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020031410
Aktenzeichen: EP19846552
Anmeldetag: 6. März 2019
Veröffentlichung: 13. Februar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/01

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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