Sputtering target, magnetic film, and perpendicular magnetic recording medium

WO2020031460 Art A1 13. Februar 2020

Anmelder: JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020031460
Aktenzeichen: EP19847280
Anmeldetag: 23. Mai 2019
Veröffentlichung: 13. Februar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34G11B5/64G11B5/851H01F10/16C22C1/04C22C19/07C22C32/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

1.069 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von