Sputtering target and magnetic film

WO2020031461 Art A1 13. Februar 2020

Anmelder: JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020031461
Aktenzeichen: EP19846656
Anmeldetag: 23. Mai 2019
Veröffentlichung: 13. Februar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34G11B5/65G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

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