Cylindrical sputtering target, in-based solder material, and method for manufacturing cylindrical target
WO2020031631
Art A1
13. Februar 2020
Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020031631
- Aktenzeichen
- EP19848525
- Anmeldetag
- 17. Juli 2019
- Veröffentlichung
- 13. Februar 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34B23K1/00B23K35/26C22C28/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
1.978 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.