Resist underlayer film-forming composition, resist underlayer film and formation method therefor, pattern-forming method, and compound and production method therefor

WO2020031733 Art A1 13. Februar 2020

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020031733
Aktenzeichen: EP19847291
Anmeldetag: 25. Juli 2019
Veröffentlichung: 13. Februar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G61/10G03F7/26H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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