Method for producing gan laminate substrate

WO2020031829 Art A1 13. Februar 2020

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020031829
Aktenzeichen: EP19847599
Anmeldetag: 1. August 2019
Veröffentlichung: 13. Februar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C30B29/38C23C16/02C23C16/34C30B33/06H01L21/02H01L21/20H01L21/205H01L21/265H01L27/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von