Local polishing method, local polishing device, and corrective polishing apparatus using said local polishing device

WO2020032106 Art A1 13. Februar 2020

Anmelder: THE UNIVERSITY OF TOKYO, NATSUME OPTICAL CORP. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020032106
Aktenzeichen: EP19847223
Anmeldetag: 7. August 2019
Veröffentlichung: 13. Februar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: B24B37/00B24B1/00B24B37/005C09K3/14

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: THE UNIVERSITY OF TOKYO
NATSUME OPTICAL CORP.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 University of Tokyo

Japanische Universität mit Sitz in Tokio, eine der führenden Forschungsuniversitäten Asiens. Die Universität ist in nahezu allen wissenschaftlichen und technischen Disziplinen aktiv, darunter Materialwissenschaften, Elektrotechnik, Biotechnologie und Medizin.

3.350 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von