Photosensitive resin composition and method for forming resist pattern

WO2020032133 Art A1 13. Februar 2020

Anmelder: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020032133
Aktenzeichen: EP19848555
Anmeldetag: 7. August 2019
Veröffentlichung: 13. Februar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/031C08F2/50C08F290/06G03F7/004G03F7/027G03F7/029G03F7/033G03F7/20G03F7/38G03F7/40H05K3/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Asahi Kasei

Asahi Kasei ist ein japanischer Mischkonzern mit Sitz in Tokio, der in den Bereichen Chemie und Kunststoffe, Wohnungsbau sowie Medizintechnik tätig ist. Das 1922 gegründete Unternehmen zählt zu den größten Chemiekonzernen Japans.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von