Vapor deposition mask, vapor deposition mask device, method for producing vapor deposition mask, method for producing vapor deposition mask device, and vapor deposition method
WO2020032149
Art A1
13. Februar 2020
Anmelder: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020032149
- Aktenzeichen
- EP19848729
- Anmeldetag
- 7. August 2019
- Veröffentlichung
- 13. Februar 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/04H01L51/50H05B33/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Dai Nippon Printing
Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.
3.006 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.