Chemical vapor deposition tool for preventing or suppressing arcing

WO2020033122 Art A1 13. Februar 2020

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020033122
Aktenzeichen: EP19847960
Anmeldetag: 19. Juli 2019
Veröffentlichung: 13. Februar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/509C23C16/458C23C16/455C23C16/52H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von