Enhancing Contrast Sensitivity And Resolution in A Grating Interferometer By Machine Learning

WO2020033979 Art A1 13. Februar 2020

Anmelder: RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020033979
Aktenzeichen: EP19847017
Anmeldetag: 8. Oktober 2019
Veröffentlichung: 13. Februar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G01B9/02G06N20/00G06N3/02G06N3/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Rensselaer Polytechnic Institute

Das Rensselaer Polytechnic Institute ist eine private technische Universität mit Sitz in Troy, New York, und eine der ältesten technischen Hochschulen der USA. Das Patentportfolio streut breit über Medizintechnik, Halbleiter und Mess- und Prüftechnik, mit weiteren Anmeldungen in Pharma, Kunststofftechnik und Software. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung

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