Continuous plating method

WO2020034557 Art A1 20. Februar 2020

Anmelder: GOERTEK INC. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020034557
Aktenzeichen: EP18930465
Anmeldetag: 29. Dezember 2018
Veröffentlichung: 20. Februar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C25D17/06C25D7/00C25D5/02H01R43/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: GOERTEK INC.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Goertek

Chinesischer Elektronikhersteller mit Sitz in Weifang, spezialisiert auf akustische Komponenten, Mikrofone und Zulieferteile für Unterhaltungselektronik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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