Substrate treatment method, substrate treatment device, and substrate treatment system

WO2020039765 Art A1 27. Februar 2020

Anmelder: SCREEN HOLDINGS CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020039765
Aktenzeichen: EP19852346
Anmeldetag: 4. Juli 2019
Veröffentlichung: 27. Februar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B05D1/36B05D1/40B05D3/00H01L21/027H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 SCREEN Holdings

Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.

1.641 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von