Method for forming pattern, and radiation-sensitive composition

WO2020040092 Art A1 27. Februar 2020

Anmelder: JSR CORPORATION, CORNELL UNIVERSITY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020040092
Aktenzeichen: EP19851347
Anmeldetag: 19. August 2019
Veröffentlichung: 27. Februar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: JSR CORPORATION
CORNELL UNIVERSITY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

2.270 Patente in unserer Datenbank

🇺🇸 Cornell University

Die Cornell University ist eine private Universität in Ithaca, New York (USA), die in Forschung und Lehre über zahlreiche natur- und ingenieurwissenschaftliche Fachrichtungen aktiv ist.

1.544 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von