Compound, composition containing same, method for forming resist pattern, and method for forming insulating film

WO2020040161 Art A1 27. Februar 2020

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020040161
Aktenzeichen: EP19853000
Anmeldetag: 21. August 2019
Veröffentlichung: 27. Februar 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C08L61/04C07C39/367C07C69/712C07C69/96C08G8/00G03F7/004G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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