Multi-layered resistive-thermocouple type temperature measuring wafer sensor and method for manufacturing same
WO2020040381
Art A1
27. Februar 2020
Anmelder: KOREA RESEARCH INSTITUTE OF STANDARDS AND SCIENCE 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020040381
- Aktenzeichen
- EP19851146
- Anmeldetag
- 30. Januar 2019
- Veröffentlichung
- 27. Februar 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L35/30H01L35/32H01L35/04H01L35/34H01L35/14H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KOREA RESEARCH INSTITUTE OF STANDARDS AND SCIENCE
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Korea Research Institute of Standards and Science
Der Anmelder ist ein südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut für Metrologie mit Sitz in Daejeon, bekannt als KRISS. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik, ergänzt durch Halbleiterbauelemente, Software und Medizintechnik. Anmeldungen laufen seit 2002 durchgehend fort.
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