Systems and methods of optimal metrology guidance
WO2020043525
Art A1
5. März 2020
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020043525
- Aktenzeichen
- EP19756352
- Anmeldetag
- 19. August 2019
- Veröffentlichung
- 5. März 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20G03F1/86
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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